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臺積電2nm的攔路虎既不是千億投資更非光刻機,而是水!

來源:商業經濟觀察


在晶圓代工領域,臺積電扮演龍頭角色,無論是產能還是工藝,臺積電對比競爭對手都有不小的領先優勢。按照臺積電計劃,3nm工藝芯片將會在明年下半年進行投產,而2nm工藝產線則會在2023年投入使用。

事實上,建立先進工藝芯片工廠,對芯片制造商而言,有著相當大的困難。先進工藝研發需要耗費大量時間與金錢,而先進芯片生產、擴產則需要大量尖端設備提供支持。

但這對臺積電而言,無論是資金還是設備都不是2nm技術的攔路虎。臺積電建立2nm芯片工廠的開銷僅為200億美元(折合人民幣1290億),而臺積電今年資本支出費用則是1000億美元,絲毫構不成資金壓力。

至于EUV光刻機,雖然荷蘭ASML每年產量有限,但要知道,臺積電包攬了全球一半以上的EUV光刻機。建立2nm芯片產線,臺積電的EUV光刻機數量也足夠。

目前來看,真正阻礙臺積電建立2nm工廠,生產芯片的攔路虎其實是水資源。據悉,臺積電的2nm芯片建廠申請,近日遭到了新竹環保局的拒絕,理由是的日均耗水量太大。

值得一提的是,這并不是臺積電第一次因為耗水太大而遭到當地部門拒絕。水對臺積電而言,主要作用是沖洗芯片,并且為了防止雜質污染芯片,臺積電必須要使用純水反復沖洗。

根據臺積電給出的數據顯示,生產8英寸晶圓每小時耗水250立方米,而生產12英寸晶圓,每小時耗水量則是在500立方米。臺積電每年晶圓產量大概在3000萬片,耗水量也就在160億噸到170億噸之間。考慮到臺灣地區四面環海,河流較少,水資源本身就不算豐富,因此環保部門拒絕臺積電建廠也合情合理。

畢竟,2020年臺灣不少地區都出現過旱情停水的情況。而對于臺積電來講,要解決耗水問題,只有兩條路可以走:

一是臺積電對海水提純,專門用于芯片生產。但這樣必然會導致芯片生產成本大幅上漲,為維持利潤,芯片價格也必須提升,而這將嚴重傷害到客戶。

二是分散產能,在水資源豐富的國家和地區,建立新芯片生產工廠。從結果來看,臺積電選擇的是第二個方案。據報道,除了美國工廠外,臺積電還計劃在德國、日本,建立先進芯片工廠。

事實上,海外建廠是臺積電必行之路,畢竟臺積電產能只會越來越大,本土水資源總有一天無法支持臺積電的消耗。



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