來源：搜狐科技

在制造業領域，日本企業的實力是數一數二的，生產的產品質量極佳，獲得不少好評。近日，有消息稱，日本光學設備制造巨頭佳能計劃在今年3月份推出新型光刻機"FPA-3030i5a"，生產效率和以往的機型相比提升近17%。

談到光刻機，大家都知道比較有名的是荷蘭ASML光刻機，而且近年來先進制程工藝芯片的生產越來越離不開ASML光刻機的使用，只是每年ASML光刻機產能有限，所以不少企業都爭著搶購光刻機。如今佳能推出新型光刻機，不知道ASML緊張么？

據了解，此前佳能在光刻機生產方面就積累了不少經驗，佳能、尼康和ASML三家廠商在全球半導體光刻機市場上拿下了超90%的市場。曾經尼康和佳能居于龍頭地位，不過ASML在EUV工藝方面獲得良好發展后，尼康和佳能就漸漸"沒落"，一直到現在都未能實現反超，而全球能夠生產EUV光刻機的也就只有ASML了。

如今，隨著全球對芯片需求量持續增長，半導體設備市場也迎來了新的發展期，存在著很大的紅利，有數據顯示2019年日本半導體生產設備在全球市場中占31.3%，表現還是很不錯的，隨著市場紅利漸漸顯露，佳能、尼康等日企自然不會錯過這個機會。

佳能此次計劃推出新型光刻機就是希望通過推進多種半導體的戰略來搶占先機，在海外市場中獲得更多訂單，從而確立自家生產的光刻機在市場中的地位。

其實，佳能如果能夠在光刻機領域取得突破對于我國而言也是一件好事，畢竟現在美國從中作梗，中國無法進口ASML光刻機，也無法從臺積電等廠商那采購芯片，如果缺少先進芯片，日后中國企業在全球競爭中將會失去優勢，目前中國也從日韓廠商那采購芯片，與此同時也在努力研發爭取早日實現國產替代。現在佳能推出光刻機，那么我國也可以繞開美國采購佳能的光刻機來生產芯片，從而實現超越。據了解，去年10月中旬，就有消息稱不少中資企業打算向尼康、佳能出資，攜手來研發EUV以外的新型光刻機。

盡管現在ASML在光刻機領域"一家獨大"，但是相信佳能、尼康等日本企業也能夠攻克難關，在光刻機領域獲得突破。讓我們共同期待佳能新型光刻機的到來，也期待國產半導體能夠實現新的發展。