來源：商業(yè)經(jīng)濟(jì)觀察

光刻機(jī)是生產(chǎn)制造芯片的主要設(shè)備，沒有先進(jìn)的光刻機(jī)，自然就無法生產(chǎn)制造先進(jìn)制程的芯片。

在光刻機(jī)廠商中，ASML的技術(shù)最為先進(jìn)，幾乎占領(lǐng)了中高端市場，尤其是ASML研發(fā)制造的EUV光刻機(jī)，其是生產(chǎn)制造Seven 納米及以下芯片的必要設(shè)備。

雖然用DUV光刻機(jī)也能夠生產(chǎn)制造Seven 納米，但其存在成本高、工藝復(fù)雜以及良品率低等問題，所以在Seven 納米及以下芯片上，基本上都是采用EUV光刻機(jī)。

但EUV光刻機(jī)在2015年被研發(fā)制造出來以后，其產(chǎn)能一直都比較低，目前才總共出貨才100臺，并且一半以上都交付了臺積電。數(shù)據(jù)顯示，三星也想要更多EUV光刻機(jī)，無奈ASML根本無法生產(chǎn)出來，并且，ASML還積壓了幾十億歐元的EUV光刻機(jī)訂單。也就是說，從EUV光刻機(jī)被制造出來開始，其就面臨供不應(yīng)求的問題，而且，ASML的產(chǎn)能沒有大幅度提升。

但就在近日，外媒傳來消息，ASML突然大提速，加速生產(chǎn)制造更多EUV光刻機(jī)。

消息稱，ASML預(yù)計(jì)在2021年生產(chǎn)制造45臺EUV光刻機(jī)，僅后半年就將交付25臺；2021年生產(chǎn)制造55臺；2022年則是60臺。相當(dāng)于是3年生產(chǎn)160臺EUV光刻機(jī)。

要知道，在2019年ASML僅生產(chǎn)制造了26臺EUV光刻機(jī)，而2020年生產(chǎn)制造了30臺EUV光刻機(jī)，雖然產(chǎn)能也在逐年提升，但產(chǎn)能提升幅度不大。進(jìn)入2021年后，尤其是進(jìn)入2021年后半年，ASML才突然提速EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能，這至少有三方面的含義。

首先，EUV光刻機(jī)需求太大了，不提速不行了。

據(jù)悉，三星明確表示想要更多EUV光刻機(jī)，結(jié)果因?yàn)锳SML產(chǎn)能的問題，其在韓國投資2億美元建設(shè)EUV光刻機(jī)再制造工廠。另外，臺積電和英特爾都積極擴(kuò)大芯片產(chǎn)能，尤其是先進(jìn)制程芯片的產(chǎn)能，這自然需要更多EUV光刻機(jī)。再加上，ASML已經(jīng)積壓了幾十億歐元的EUV光刻機(jī)訂單。

也就是說，巨大的EUV光刻機(jī)需求以及積壓的訂單，已經(jīng)讓ASML不得不提速生產(chǎn)了。

其次，E技術(shù)正在普及。

EUV光刻機(jī)原本就用于非儲存芯片的生產(chǎn)制造，簡單就是說用于生產(chǎn)高通、蘋果、AMD以及華為海思廠商等Seven芯片及以下制程的芯片。如今，EUV光刻機(jī)也開始用于儲存芯片的制造，像三星、SK以及海力士等儲存芯片企業(yè)也開始用EUV光刻機(jī)進(jìn)行制造。

不僅如此，其還將EUV應(yīng)用層從1提升到5，這就意味著其需要更多的EUV光刻機(jī)。關(guān)鍵是，生產(chǎn)5nm等非儲存芯片，每個EUV層面僅需要一臺EUV光刻機(jī)，但生產(chǎn)制造16nm以下的儲存芯片，每個EUV層面需要1.5到2臺EUV光刻機(jī)。

也就是說，無論是生產(chǎn)儲存芯片還是非儲存芯片都在用EUV光刻機(jī)，這說明EUV技術(shù)正在普及，自然就需要更多EUV光刻機(jī)。

最后，ASML提速也是為了實(shí)現(xiàn)自由出貨。

EUV光刻機(jī)是ASML營收和利潤的主要貢獻(xiàn)者，畢竟其售價高，單臺售價是DUV光刻機(jī)的好幾倍。但是，ASML的EUV光刻機(jī)卻不能自由出貨，盡管ASML多次申請?jiān)S可，甚至還發(fā)出了警告，結(jié)果依舊沒有實(shí)現(xiàn)。

如今，EUV技術(shù)正在普及，儲存芯片和非儲存芯片的生產(chǎn)制造都在使用EUV光刻機(jī)，而ASML加速提升EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能，自然能夠加速EUV技術(shù)的普及。

也就是說，EUV技術(shù)普及和大量的EUV光刻機(jī)被生產(chǎn)制造出來，ASML或許就能夠?qū)崿F(xiàn)自由出貨，因?yàn)槠占暗募夹g(shù)就不再是最先進(jìn)的技術(shù)了。